第109章 失踪的院士（2/5）

“耀华，你先开始问，问点有难度的，有技术含量的，太简单的对他来说没有挑战性！”

李耀华也不客气，于是直接就问：

“小苏，我来问问一点前瞻性的课题，你能谈谈如何突破高性能微声薄膜滤波器，比如如何研究AlScN压电薄膜图形化的思路吗？”

于老一旁的秘书石蕴璞做记录，他本身就是华清大学电子工程系毕业的硕士研究生，对于这个问题，说实话，他不怎么了解。

听到这个问题，苏武愣了一下，

见此情况，秘书石蕴璞心里暗自窃喜，他觉得苏武一个大专毕业的根本不可能知道，

于老越是把苏武说的怎么厉害，倒让他产生了一种文人相轻的感觉！

实际上，苏武听了这个问题，心里很坦然，因为李耀华问的问题倒是他过去从事的方向之一，在2009年之前，这个问题一直没能突破。

但苏武那时候，AlScN微声薄膜的制备工业化已经很成熟了，他刚才稍微停顿了一下，似乎从石蕴璞的脸上看到一丝窃喜，故意多停顿了几秒，整理思路回答道；

“在AlScN微声薄膜滤波器的制作过程中，通常需要对薄膜进行两次图形化刻蚀操作，以我的了解，国内现在普遍采用剥离工艺，利用这种技术光刻出图像。

AlScN 薄膜生长时，衬底温度会直接升高，而如果时间较长，光刻胶就会因高温碳化无法去除，导致剥离失败。

干法刻蚀的 RIE 是普通反应离子刻蚀，但因为离子浓度低，刻蚀速度慢，工艺调整空间小，时间一长光刻胶就碳化了。