第三百一十三章 光刻技术（5/5）

大致方法是先制版，通常采用石英玻璃板和铬板的复合材料制作底板，用电子束或镭束在上面刻画集成线路，做成光掩模。

然后，硅片上涂上光敏涂层，将光掩模上的图案曝光在硅片涂层上，接着通过化学蚀刻的办法，完成集成线路的“打印”。

光掩模相当于底板，这么反复操作就能够大量制作印刷上集成线路的硅片。

1961年，山姆国GCA公司的DavidW.Mann部门，制造出第一台步进式光刻机，售价30000刀，精度1微米。

1984年，阿斯麦成立，当时蓝星大概有10家光刻机制造商，那时这个行业的老大是GCA，阿斯麦倒数第一。

到80年代末，蓝星活着的光刻机企业只剩下5家，包括太阳国的尼康、佳能，山姆国的GCA、SVG。

阿斯麦排第四位。

1995年，阿斯麦经历沟沟坎坎后，获得了三星电子的超大订单，并在哥谭证券交易所上市，而曾经的老大GCA在被收购一次后，已经被关闭。

随着对阿斯麦的深挖，安德烈又了解到了EUV的消息。

这个“EUV”是ExtremeUltra-violet的简写，这三个单词直译是“极度紫色”，用在半导体领域，代表的是“极紫外光刻”的意思。

紫外光在电磁波谱中，范围波长为400到10纳米。

极紫外光刻，是以波长10到14纳米的极紫外光作为光源的光刻技术。

1997年山姆国成立了EUVLLC联盟，ASM在做出多项让步后成功入局。

EUVLLC联盟汇聚了山姆顶尖的研究资源和芯片巨头，包括劳伦斯利弗莫尔实验室、劳伦斯伯克利实验室、桑迪亚国家实验室三大国家实验室，联合IBM、AMD、Motor等巨头，集中数百位顶尖科学家，共同研究EUV技术。

安德烈将有关情况发聩给陈立东后，陈立东下达指令：靠近阿斯麦，与之发生业务关系，然后向阿斯麦输送一批员工。

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