第655章 双重曝光和后栅极技术（4/5）

“没问题！我们已经落后了，他们还要怎么样？再说了，这两年半导体行业整体衰退，ic制造企业的日子也不好过。阿斯麦现在就等着新的订单呢，他们已经主动和我联系了好几次。”

魏建军自嘲的笑了笑，显然上次的延迟交货，在他的心里积攒了不少的怨气。

不过，他也不是那种怨天与人的家伙。

紧接着，他又说道“萧董，这段时间我们也没闲着。拿下了65n制程工艺之后，我们又开发了双重曝光技术，并开始积极探索后栅极技术。”

ic的技术发展到今天，人们已经习惯了将度量单位来命名制程工艺节点。

但实际上制程工艺的内涵远不止表面看到的这一些。

萧白听到魏建军的介绍，不禁感到眼前一亮。实际上双重曝光技术非常重要，英特尔直到现在都是将这项技术当做看家本领。

“老魏，你总是能给人带来惊喜。我很支持你的技术研发思路，咱们不能仅仅以制程工艺的节点来论输赢，制程工艺的内涵也很重要。”

萧白拍了拍魏建军的肩膀，感到很欣慰。

“没办法，硬拼制程工艺节点的推进，我们有先天的弱势。反而将节点的工艺吃透，并采取不同的技术路线来实现，会对我们长期发展很有好处。”

魏建军介绍说，他准备采用双重曝光技术实现40\45制程工艺的突破，并在下一代节点，比如像28n节点采用后栅极技术。

所以说某个节点的实现，可以采取不同的技术路径。

“行！这些事你看着办，我一定会大力支持的。另外，咱们要建设65n生产线，生产线你还准备建在这边？”

萧白了解了大概的情况也就可以了，他当然不会和魏建军去讨论具体的技术细节。

他话锋一转，问了一个更实际的问题。

“这条线我打算在异地建厂，目前公司的人才汇聚，培养出了不少可以独挡一面的人物，也是时候让她们挑大梁了。我首选的地点，是蓉城。”

魏建军心里已经有了想法，当即就说了出来。

“这样吧，你做个方案上报给我。回头决策委员会开会探讨一下，等方案通过了，这条生产线就开建吧。”