第201章 我要做慈善（5/5）

1965年，国内自主研制的第一块单片集成电路在魔都诞生。

我国步入集成电路时代仅比米国晚了7年，可是比h国早10年。

1977年，gk-3型半自动光刻机诞生！

1978年，1445所在gk-3的基础上开发了gk-4，把加工圆片直径从50毫米提高到75毫米！

1981年，中科院半导体所研制jk-1型半自动接近式光刻机，研制成功两台样机。

米国在20世纪50年代就已经拥有了接触式光刻机，期间相差了二十几年。

1979年，机电部45所开展了分步光刻机的研制，对标的是米国的4800dsw。

1985年，研制出了样机，通过电子部技术鉴定，认为达到4800dsw的水平。

这是中国第一台分步投影式光刻机，采用的是436纳米g线光源，与国外的差距不超过7年！

1990年3月，中科院光电所研制的ioe1010g直接分步重复投影光刻机样机通过评议，工作分辨率125微米，主要技术指标接受米国gca8000型的水平，相当于国外80年代中期水平，差距在五年！

如果不是技术封锁和专利掣肘，国内现在一定不比国外差！

本来就不比国外落后多少，而且，国内的光学技术甚至领先国际！

又加上赵岂年的原因，知道如何打破技术壁垒，一下子跑过了弯道，实现了超车！

在此基础上，再度连续突破，更是天经地义的事情！

而且，在科技界，一旦有了技术积累，在积累的基础上进行突破，会简单很多！

一旦领先，处处领先，甚至不需要担心专利的掣肘！

“被什么卡住了？？”，赵岂年思考了一会后，问道。

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