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第193章 分界岭(2/5)

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全球高科技领域,甚至是米国政府,都插手这个事情,组成了联盟!

但是,尝试了很多方法,提出了很多解决方案,依旧没有成功!

最后,一切都败给了工程上最简单的解决办法,在晶圆光刻胶上方加 1 厚的水。

水可以把 193纳米的光波长折射成 134纳米!

浸入式光刻成功翻越了 157纳米大关,直接做到半周期 65纳米!

加上后来不断改进的高 na 镜头、多光罩、波段灵敏的光刻胶等技术,浸入式 193纳米光源的光刻机一直做到后来的7纳米!

而按照原来的历史,2002 年浸入式 193纳米的方案才会被提出,随后 asl 在一年之后才开发出样机!

而现在,还没到2002年!!

光刻机跨越193纳米,是无数次尝试的结果!

赵岂年的存在,让这个方案提前了两年!

同时,在赵岂年大量资金的推动下,国内的研究和开发要提前两年!!

“赵叔,研究进展如何?”

赵龙腾哈哈一笑,心中的兴奋一下子被释放了出来!

“我们经过近一年的研究,成功产出了157纳米的光刻机!”

赵岂年哗一声站了起来,有点懵了!

“怎么……怎么这么快?”

赵龙腾“哈哈……我们中国人在科研上,什么时候比外国人差?”

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