第93章 压力山大（1/5）

国家的光刻机和技术仅仅比国外落后一点点！

而且，国家会将光刻机和技术以及团队，暗中划转给赵岂年！

这个消息对于赵岂年而言，就是天降祥瑞！

中国的光刻机研制在70年代后期起步！

1977年，gk-3型半自动光刻机诞生！

1978年，1445所在gk-3的基础上开发了gk-4，把加工圆片直径从50毫米提高到75毫米，自动化程度有所提高，同样是接触式光刻机。

1981年，中科院半导体所研制jk-1型半自动接近式光刻机，研制成功两台样机。

米国在20世纪50年代就已经拥有了接触式光刻机，期间相差了二十几年。此时的光刻机巨头asl还没有出现（1984年，asl才诞生），rb的尼康和佳能已于60年代末开始进入这个领域。

1979年，机电部45所开展了分步光刻机的研制，对标的是美国的4800dsw。

1985年，研制出了样机，通过电子部技术鉴定，认为达到4800dsw的水平。

这是中国第一台分步投影式光刻机，采用的是436纳米g线光源，与国外的差距不超过7年！

1990年3月，中科院光电所研制的ioe1010g直接分步重复投影光刻机样机通过评议，工作分辨率125微米，主要技术指标接受美国gca8000型的水平，相当于国外80年代中期水平。

最近，国家已经启动了193纳米arf光刻机项目。

同时期，光刻机暂时被卡在了193纳米之上！

米国在联合世界各国进行技术突破！

这对赵岂年而言，是天大的好消息！！

不过坏消息是，国家的光刻机，基本用于军事领域，在民用领域几乎没有多少应用！

这是最大的硬伤！

光刻机没有大量的应用，几乎不可能继续推进！

若是赵岂年想称霸光刻机，就必须建立起足够强大的应用！